品牌环境 郑州某半导体材料厂生产方式历程中的同时产生高硅化工工业化工废水（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟化工工业化工废水（F⁻ 200-300mg/L）。二者化工工业化工废水混后而后容易建成氟硅酸电解质溶液，专统化学沉淀出的法很难固定达到规定。创业项目规范同样去掉硅和氟（释放规定：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 污废水 组分及源 关键组成成分 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 来原 ：晶圆刻蚀电镀废水处理工艺、CMP粉磨电镀废水处理工艺、产品洗水 治理 工艺设计环节 协同管理沉垫阶段中， ： 有级响应池 ： 第一名级污泥脱水Ca(OH)₂转换CaF₂和CaSiO₃积淀； 第三级添加PAC（聚合物氯化铝）加强二沉池。 固液离心分离分阶段 ： 反渗透装置平台 ：使用0.02μm管径膜零部件挪用橡胶胶体部分硅和微细结晶物。 广度脱氟阶段中， ： 抗逆性被氧化铝粉吸塔 ：稳定度氟化合物离心分离出掉。 最中使用效果 留水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远相对比较标准规定。 反渗透膜软件系统通量稳定性高在15LMH，有机化学的洗涤周期性缩短至60天。 生活污水经压滤后含水分率＜65%，可按一样固体废物加工。